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快速退火爐的相關(guān)介紹

日期:2024-12-23 01:25
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摘要:
快速退火爐是利用鹵素紅外燈做為熱源,通過(guò)極快的升溫速率,將晶圓或者材料快速的加熱到300℃-1200℃,從而消除晶圓或者材料內(nèi)部的一些缺陷,改善產(chǎn)品性能。
快速退火爐采用先進(jìn)的微電腦控制系統(tǒng),采用PID閉環(huán)控制溫度,可以達(dá)到極高的控溫精度和溫度均勻性,并且可配置真空腔體,也可根據(jù)用戶(hù)工藝需求配置多路氣體。
快速退火爐(芯片熱處理設(shè)備)廣泛應(yīng)用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導(dǎo)體和功率器件等多種芯片產(chǎn)品的生產(chǎn),和歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物生長(zhǎng)、消除應(yīng)力和致密化等工藝當(dāng)中,通過(guò)快速熱處理以改善晶體結(jié)構(gòu)和光電性能,技術(shù)指標(biāo)高、工藝復(fù)雜、專(zhuān)用性強(qiáng)。
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