- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
氮氧分析儀產(chǎn)品應(yīng)用:
廣泛應(yīng)用于N2回流爐、N2直流爐、空氣分離裝置、氣體純度管理、保護性惰性氣體、鐵氧鐵燒結(jié)爐等環(huán)境下對氧氣濃度進行測定。
氮氧分析儀主要特點:
1. N2 、O2 兩種顯示供用戶選擇;
2. 上下限報警點能在全量程范圍內(nèi)任意設(shè)置;
3. 通過空氣中單點標定即可滿足從 ppm ~ %范圍的氧含量準確測量;
4. 寬范圍供電,消除市電波動對分析儀的影響;
5. 可外接打印機,實現(xiàn)測試數(shù)據(jù)的手動或自動打?。ㄟx配);
6. 外觀小巧、方便維護。
氮氧分析儀技術(shù)參數(shù):
測量原理 |
氧化鋯 |
顯示方式 |
5位數(shù)碼管顯示 |
測量范圍 |
10/100/1000ppm,21.000% O2 /N2 |
測量精度 |
≤±1.5% FS |
重 復(fù) 性 |
≤±1% |
響應(yīng)時間 |
T 90 ≤30S |
模擬輸出 |
4-20mA.DC(非隔離輸出,負載電阻小于500歐姆) 1 路可編程干觸點型無源報警輸出,觸點*大容量 220VAC/2A |
|
|
環(huán)境濕度 |
<90%RH |
供電電源 |
AC85~264V 50/60Hz |
樣氣溫度 |
-10~ +50℃ |
采樣方式 |
通入式 |
樣氣流量 |
300~ 500ml/min |
背景氣體 |
氮氧混合氣份 |
規(guī)格尺寸 |
80mm×160mm×142mm(H×W×D) |
開孔尺寸 |
75mm×151mm(H×W) |
使用壽命 |
>20000小時(正常使用條件下) |
氣路接口 |
Φ6塑料管快擰 |
安裝方式 |
嵌入式安裝、氧傳感器自帶固定夾 |
型號定義 |
N2 顯示(N2 %=100-O2 % ) |