- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
晶體生長(zhǎng)方法
單晶和多晶
單晶體:整塊晶體由一顆晶粒組成,或是能用一個(gè)空間點(diǎn)陣圖形貫穿整個(gè)晶體。單晶體是原子排列規(guī)律相同,晶格位相一致的晶體。例如:?jiǎn)尉Ч琛?br>
多晶體:整塊晶體由大量晶粒組成,或是不能用一個(gè)空間點(diǎn)陣圖形貫穿整個(gè)晶體。多晶體是由很多排列方式相同但位向不一致的小晶粒組成。例如:常用的金屬。
多晶體在宏觀上不具有各向異性(但是組成它的每一個(gè)微小的單晶體仍具有各向異性),它也有固定的熔點(diǎn)
單晶硅和多晶硅
1、在力學(xué)性質(zhì)、光學(xué)性質(zhì)和熱學(xué)性質(zhì)的各向異性方面,遠(yuǎn)不如單晶硅明顯;
2、在電學(xué)性質(zhì)方面,多晶硅晶體的導(dǎo)電性也遠(yuǎn)不如單晶硅顯著,甚至于幾乎沒(méi)有導(dǎo)電性。
3、在化學(xué)活性方面,兩者的差異極小,一般都用多晶硅比較多。
晶體生長(zhǎng)的方法
晶體生長(zhǎng)的方法有:提拉法,坩堝下降法,泡生法,焰熔法,區(qū)熔法,弧熔法
提拉法原理為:
1、首先將原料在坩堝中加熱融化,調(diào)整爐內(nèi)溫度場(chǎng),使熔體上部處于過(guò)冷狀態(tài);
2、然后在籽晶桿上安放一粒籽晶,讓籽晶下降至接觸熔體表面;
3、待籽晶表面稍熔后,提拉并轉(zhuǎn)動(dòng)籽晶桿,熔體此時(shí)處于過(guò)冷狀態(tài),就會(huì)結(jié)晶在籽晶上,并在提拉和旋轉(zhuǎn)過(guò)程中*終生長(zhǎng)出圓柱狀大塊晶體
熔化 → 引晶 → 頸縮 → 放肩 → 等徑生長(zhǎng) → 收尾
技術(shù)難點(diǎn):1.溫度場(chǎng)的設(shè)置和優(yōu)化;2.熔體的流動(dòng)和缺陷分析
優(yōu)點(diǎn):
1、生長(zhǎng)過(guò)程可以觀察和測(cè)試,有利于控制生長(zhǎng)調(diào)節(jié)
2、利用縮頸技術(shù)和上等定向籽晶可以減少缺陷
3、生長(zhǎng)速度較快(每小時(shí)6-15mm)
4、晶體光學(xué)均一度高
泡生法
泡生法又稱凱式長(zhǎng)晶法,簡(jiǎn)稱KY法。
泡生法原理為:將原料加熱至熔化形成熔湯,再把籽晶接觸到熔湯表面,在晶種與熔湯的固液界面上開(kāi)始生長(zhǎng)單晶后,晶種以極緩慢的速度拉升一段時(shí)間形成晶頸,待凝固速率穩(wěn)定后,便不再拉升和旋轉(zhuǎn),僅以控制冷卻速率的方式使單晶從上方向下逐漸凝固,*后形成單晶塊。
1、不以提拉為主要長(zhǎng)晶手段,只拉出晶體頭部頸部,其余部分靠溫度變化生長(zhǎng)。
2、泡生法生長(zhǎng)環(huán)境比提拉法穩(wěn)定,容易生長(zhǎng)出高質(zhì)量晶體。
泡生法的優(yōu)勢(shì):整個(gè)生長(zhǎng)過(guò)程晶體不被提出坩堝,可以控制冷卻速度,減少熱應(yīng)力。
泡生法的缺點(diǎn):溫度場(chǎng)控制要求更高,生長(zhǎng)效率不夠高
區(qū)熔法
區(qū)熔法主要用于鍺、GaAS(砷化鎵)。豎直區(qū)熔法主要用于硅(因?yàn)楣枞垠w溫度高,化學(xué)性質(zhì)活潑,容易受異物污染,難以找到合適的舟皿,不能用水平區(qū)熔法)
籽晶的引入和縮頸過(guò)程和提拉法類似,
為了優(yōu)化熔區(qū)溫度雜質(zhì)分布,晶體上下部分通常加入逆向轉(zhuǎn)動(dòng)
布里奇曼法
水平布里奇曼法和豎直布里奇曼法
兩個(gè)溫區(qū):加熱區(qū)和冷卻區(qū)
坩堝從熱區(qū)到冷區(qū)移動(dòng),由于溫度下降,熔體在籽晶的引導(dǎo)下凝固結(jié)晶,結(jié)晶界面隨著坩堝的移動(dòng)朝著熔體方向不斷推移
布里奇曼法和坩堝接觸緊密,因此晶體生長(zhǎng)質(zhì)量受坩堝影響較大,但是水平布里奇曼法熔體開(kāi)放面大,應(yīng)力問(wèn)題比垂直法??;但是水平布里奇曼法不利于生長(zhǎng)徑向?qū)ΨQ的晶體。
需要石英舟或者其他高溫穩(wěn)定材料做出的容器
舟皿壁對(duì)晶體生長(zhǎng)有雜質(zhì)污染
舟皿材料要與生長(zhǎng)材料的熱膨脹系數(shù)一致,否則會(huì)有生長(zhǎng)應(yīng)力,產(chǎn)生高密度的晶格缺陷。
弧熔法
優(yōu)點(diǎn):能生長(zhǎng)熔點(diǎn)很高的氧化物晶體,生長(zhǎng)方法簡(jiǎn)單迅速
缺點(diǎn):投料多,晶體完整性差,生長(zhǎng)過(guò)程難以控制
焰熔法
晶體生長(zhǎng)共性問(wèn)題
籽晶和引晶工藝非常重要,籽晶有引導(dǎo)晶體生長(zhǎng)的作用,如果籽晶質(zhì)量不好,或者引晶過(guò)程操作不當(dāng)引入缺陷,將會(huì)對(duì)后續(xù)過(guò)程產(chǎn)生毀滅性影響
溫度場(chǎng)控制,溫度越低,生長(zhǎng)越快,但是缺陷也越多,溫度過(guò)低還可能使熔體中產(chǎn)生新的核產(chǎn)生,使籽晶失去唯壹的引導(dǎo)作用,不能得到完整的一塊單晶。
生長(zhǎng)環(huán)境的波動(dòng)會(huì)影響生長(zhǎng)質(zhì)量,如溫度波動(dòng),機(jī)械振動(dòng),熔體擾動(dòng),應(yīng)力分布等。
提拉法:?jiǎn)尉Ч?、紅藍(lán)寶石、釔鋁榴石(YAG) 釔鋁榴石硬而不脆,拋光效果好,可以磨出瑞麗的邊楞,曾用作鉆石的代用品現(xiàn)可用于激發(fā)激光
泡生法:藍(lán)寶石,釔鋁石榴石
區(qū)熔法:超純單晶硅
布里奇曼法:AgGaSe2(硒鎵銀)、CdZnTe(碲鋅鎘 CZT)、堿金屬鹵化物
CZT廣泛用于紅外探測(cè)器和核輻射探測(cè)器
硒鎵銀晶體可用于激光器
堿金屬鹵化物可用于電池