產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號：CY-MSH325- II-DCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠商：成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2"目標源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于涂覆非金屬材料。雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀設計用于涂覆單層或多層薄膜，適用于各種材料，如合金、鐵電、半導體、陶瓷、電介質、光學、聚四氟乙烯等。
詳情介紹：

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點：

1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術規(guī)格：

項目

明細

產(chǎn)品型號

CY-MSH325- II-DCRF-SS

供電電壓

AC220V，50Hz

整機功率

4KW

系統(tǒng)真空

≦5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ140mm

加熱溫度

≦500℃

控溫精度

±1℃

可調(diào)轉速

≦20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm，高度500mm

腔體材質

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM

真空系統(tǒng)

配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源500W,射頻電源500W

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

設備尺寸

600mm × 650mm × 1280mm

設備重量

350kg
































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