產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:分體式單靶磁控鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH270-I-RF-Q
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備。
詳情介紹:
本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過程全向可視,便于實驗的觀察記錄,腔體設(shè)計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。同時設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設(shè)計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。
設(shè)備的真空獲得系統(tǒng)采用兩級真空泵組,前級泵為大抽速機械泵,有效縮從常壓至低真空的時間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

 技術(shù)參數(shù):

項目

明細(xì)

產(chǎn)品型號

CY-MSH270-I-RF-Q

供電電壓

AC220V50Hz

整機功率

3KW

系統(tǒng)真空

5×10-4Pa

樣品臺

尺寸

150mm

加熱溫度

500

旋轉(zhuǎn)速度

1-20r/min

控溫精度

±1

磁控濺射頭

數(shù)量

2英寸 x1

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

φ270mm X 200mm

觀察窗口

全向可視

開啟方式

頂蓋拆卸式

腔體材料

高純石英

真空系統(tǒng)

機械泵

CY240

抽氣接口

KF16

抽氣速率

1.1L/s

分子泵

CY600

抽氣接口

KF40

抽氣速率

600L/s

排氣接口

KF40

真空測量

電阻規(guī)+電離規(guī)

供電電源

AC;220V 50/60Hz

氣體控制

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

電源配置

直流電源數(shù)量

1

輸出功率

500W

輸出電壓

600V

響應(yīng)時間

5ms

射頻電源數(shù)量

1

輸出功率

1000W

功率穩(wěn)定度

5W

測量精度

±0.5%

測量速度

100~1000ms

測量上限

50000


豫公網(wǎng)安備 41019702002438號