產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號：CY-MSH300P-II-DCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠商：成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。 磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。 除此之外本設(shè)備還配有偏壓電源，能夠在靶材和樣品臺間添加偏壓電場，增強離子的能量，提高成膜質(zhì)量和薄膜的附著力。整機均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實驗室制備薄膜的理想設(shè)備。
詳情介紹：

技術(shù)參數(shù)：

項目

明細

產(chǎn)品型號

CY-MSH300P-II-DCRF-SS

供電電壓

AC220V，50Hz

整機功率

3KW

極限真空度

10-6torr

載樣臺參數(shù)

尺寸

φ140mm

加熱溫度

*高500℃

控溫精度

±1℃

轉(zhuǎn)速

1-20rpm可調(diào)

磁控濺射頭參數(shù)

數(shù)量

2個2”磁控濺射頭

冷卻方式

水冷，所需流速10L/min

水冷機規(guī)格

10L/min流速的循環(huán)水冷機

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm X 300mm H

腔體材料

不銹鋼

觀察窗口

φ100mm

開啟方式

上頂開式，便于更換靶材

氣體流量控制器

2路分別通Ar，N2；

量程均為0-100sccm

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S

膜厚儀

石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源一臺，1000W，適用于制備金屬膜

射頻電源一臺，500W，適用于非金屬鍍膜

操作方式

面板按鈕操作

整機尺寸

1400mm X 750mm X 1300mm

整機重量

300kg

豫公網(wǎng)安備 41019702002438號