產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：UPS三靶磁控濺射鍍膜機(jī)

  • 產(chǎn)品型號：CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS
  • 產(chǎn)品廠商：成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
三靶磁控濺射鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的高性價(jià)比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化，模塊化和可定制的。 該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導(dǎo)電膜，合金膜，半導(dǎo)體膜，陶瓷膜，介電膜，光學(xué)膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 與同類設(shè)備相比，這種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)不僅用途廣泛，而且具有體積小，操作簡便的優(yōu)點(diǎn)，是實(shí)驗(yàn)室制備材料膜的理想設(shè)備。
詳情介紹：

技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目

明細(xì)

產(chǎn)品型號

CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS

供電電壓

AC220V，50Hz

整機(jī)功率

6KW

系統(tǒng)真空

≦5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ150mm

加熱溫度

≦700℃

控溫精度

±1℃

可調(diào)轉(zhuǎn)速

≦40rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm，高度385mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM

真空系統(tǒng)

配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?

濺射電源

配射頻濺射電源,功率500W*3

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

UPS

20KVA 16KW，延遲1小時(shí)

16節(jié)電池，容量38AH

設(shè)備尺寸

1090mm×900mm×1250mm

設(shè)備重量

350kg



豫公網(wǎng)安備 41019702002438號