產(chǎn)品名稱：粉體磁控濺射包覆機(jī)

粉體磁控濺射包覆機(jī)是通過粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜，能快速出料。

粉體包覆是指將一種或多種粉體顆粒投入到包覆設(shè)備中，通過物理或化學(xué)方法形成一層覆蓋在顆粒表面的物質(zhì)。粉體包覆的目的可以是改變顆粒表面的性質(zhì)、增加顆粒的穩(wěn)定性、控制顆粒的釋放速率等。這種技術(shù)是一種重要的技術(shù)手段，廣泛應(yīng)用于制藥、化妝品、食品、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域。
粉體包覆的機(jī)理主要包括物理機(jī)理、組裝機(jī)理和滲透機(jī)理。物理機(jī)理通過機(jī)械作用，將顆粒與包覆物質(zhì)進(jìn)行混合，使其附著在顆粒表面。組裝機(jī)理則是通過組裝技術(shù)將顆粒表面的包覆物質(zhì)進(jìn)行組裝，形成一層二維或三維的包覆結(jié)構(gòu)。而滲透機(jī)理則是通過包覆物質(zhì)的滲透作用，使其進(jìn)入顆粒表面并形成一層包覆結(jié)構(gòu)。
在實(shí)際應(yīng)用中，粉體包覆改性設(shè)備起到了關(guān)鍵作用，這些設(shè)備能有效地控制包覆膜的厚度和均勻性，從而提高介質(zhì)的穩(wěn)定性和使用壽命。此外，環(huán)境設(shè)備也起著重要作用，它主要用于控制粉體包覆改性過程中的環(huán)境因素，如溫度、濕度和氣壓，確保改性過程在*優(yōu)條件下進(jìn)行。
粉體包覆技術(shù)不僅可以改變粉體顆粒的物理化學(xué)性質(zhì)，如表面官能團(tuán)、表面疏水性、電性等，還可以利用吸附、附著和沉積現(xiàn)象對(duì)粉體進(jìn)行包覆，實(shí)現(xiàn)對(duì)粉體表面的簡(jiǎn)單改性處理。
總之，粉體包覆是一種重要的技術(shù)手段，通過改變粉體顆粒的表面性質(zhì)，滿足不同領(lǐng)域的應(yīng)用需求。如需更多信息，建議查閱化學(xué)領(lǐng)域相關(guān)文獻(xiàn)或咨詢化學(xué)領(lǐng)域?qū)I(yè)人士
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射儀用途：
1.在微電子領(lǐng)域，旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射儀被用作一種非熱式鍍膜技術(shù)，尤其適用于化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積（MOCVD）難以生長(zhǎng)或不適用的材料薄膜沉積。它能制備出大面積且非常均勻的薄膜，如歐姆接觸的金屬電極薄膜及介質(zhì)薄膜等。
2.旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射儀在光學(xué)薄膜、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等領(lǐng)域也有重要應(yīng)用。例如，它可以在玻璃基片或柔性襯底上濺射制備SiO2薄膜和摻雜ZnO或InSn氧化物（ITO）薄膜，使得可見光范圍內(nèi)的平均光透過率達(dá)到90%以上。
3.在機(jī)械加工行業(yè)中，利用旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射技術(shù)可以制作表面功能膜、超硬膜、自潤(rùn)滑薄膜等，有效提高表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能，從而延長(zhǎng)涂層產(chǎn)品的使用壽命。
此外，旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射儀還可以用于制作各種功能性薄膜，如具有反射、折射、透射作用的薄膜，以及具有吸收、偏光等作用的薄膜。它也被廣泛應(yīng)用于平板顯示器件的透明導(dǎo)電玻璃、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器的生產(chǎn)等領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)：

設(shè)備名稱	粉體磁控濺射包覆機(jī)CY-MSH100-Ⅰ-DCRF-Q
特點(diǎn)	可對(duì)粉體材料進(jìn)行表面包覆:采用磁控濺射，濺射時(shí)粉體材料在腔體內(nèi)翻滾，達(dá)到粉體表面均勻包覆; 可抽真空、通氣氛
基本參數(shù)	電源	AC220V  50HZ
	功率	<1500W
射頻電源	輸入電源	220V  3A
	輸出功率	0-300W
	輸出頻率	13.56 HZ
	冷卻方式	設(shè)備內(nèi)部的冷卻方式為風(fēng)冷
	尺寸	444(長(zhǎng))*410(寬)*128(高)
磁控濺射頭	2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層)，采用快速接頭與真空腔體相連接；
	靶材尺寸	φ50*(≦3mm)mm厚
	2英寸磁控濺射頭	射頻功率300w
	2英寸磁控濺射頭	直流功率500W
濺射腔室	濺射腔室為石英玻璃材質(zhì)的異形連熔爐管，尺寸：（Ф 100+Ф 150+Ф 100）×800 (mm)； 腔室可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速1-10rpm可調(diào)，速度通過前面板上的調(diào)速器調(diào)節(jié)，顯示屏顯示轉(zhuǎn)速 腔體兩端采用磁流體法蘭與不銹鋼密封法蘭通過快速連接的方式進(jìn)行密封，法蘭兩端安裝有支撐架支撐磁流體法蘭。卸料時(shí)拆掉兩端磁流體法蘭，將爐體傾斜（由前面板的旋鈕控制），即可快速出料。 左端法蘭上安裝了一個(gè)φ6.35的卡套接頭作為進(jìn)氣口使用，一個(gè)不銹鋼針閥控制進(jìn)氣的通斷，一個(gè)量程為-0.1-0.15MPa的機(jī)械壓力表用于觀察爐管內(nèi)壓力;一個(gè)φ19mm的通孔用于通入濺射靶頭到腔室內(nèi)部 右端法蘭上的一個(gè)φ8m的寶塔嘴接頭作為出氣口使用，一個(gè)不銹鋼針閥控制出氣的通斷，一個(gè)KF25的接頭與真空系統(tǒng)相連，一個(gè)KF16的接口作為備用接口，可選配安裝數(shù)顯真空計(jì); 右端法蘭在腔體內(nèi)的位置安裝了一個(gè)石英檔板，檔板上安裝了四個(gè)不銹鋼擋條用于攪拌打散物料，使其能充分濺射。 腔體頂部安裝了一個(gè)防護(hù)置，以屏蔽等離子體，防護(hù)置頂部有一個(gè)長(zhǎng)寬為240m的石英觀察商口，可以觀察物料濺射情況.
加熱系統(tǒng)	在旋轉(zhuǎn)石英濺射腔體外部,包覆有一層加熱裝置,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)旋轉(zhuǎn)腔體的加熱。 加熱系統(tǒng)通過 PID 溫控儀表實(shí)現(xiàn)程序控溫。 腔室氣密性允許的*高加熱溫度為 200℃;但加熱系統(tǒng)可設(shè)置溫度不受此限制，在超過200℃下運(yùn)行導(dǎo)致的部件損壞不由廠家承擔(dān)責(zé)任。 控溫精度:±1°C
真空系統(tǒng)	無油渦旋真空泵;型號(hào)::CY-GWSP600，參數(shù)如下： 排氣速度:8.71/s;31.3m3 /h 極限真空度:1Pa 噪音值:三6ldB(A) 漏率(排氣口和氣鎮(zhèn)閥關(guān)):1*10-8Pa·m 3/s *大進(jìn)/排氣壓力:0.1/0.13MPa 工作環(huán)境溫度:5~40C 冷卻方式：風(fēng)冷 進(jìn)/排氣口尺寸：KF40/KF16 單相電機(jī): 功率 0.75kW; 電壓:～115V(50Hz/60Hz)；200～230V50Hz/60Hz),兩種電壓選擇； 轉(zhuǎn)速：1425(50Hz)，1725(60Hz) rpm； 接頭形式：國(guó)標(biāo)、北美、歐洲、英國(guó)/愛爾蘭、印度 三相電機(jī)： 功率：0.75kW; 電壓：200～230 和 380～415(50Hz)；或 200～230 和 460(60Hz)V 轉(zhuǎn)速:1425(50Hz)，1725(60Hz) rpm
水冷設(shè)備	型號(hào):KJ-5000 工作電流:1.4-2.1A 制冷量:2361Btu/h 尺寸: 55X28X43cm(長(zhǎng)X寬X高) 水箱容量:6L 水流速率:16L/min
設(shè)備外形尺寸	1500mm(L)*1000mm(W)*1500mm(H) 防護(hù)罩打開時(shí)的尺寸
重量	約100kg