產(chǎn)品名稱：實驗型，研究型MPCVD

MPCVD適合的應用:

化學氣相沉積法制備高品質單晶金剛石

化學氣相沉積法制備高品質多晶金剛石自支撐厚膜

化學氣相沉積法制備高品質多晶金剛石薄膜

化學氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和金剛石膜等各種碳納米薄膜

MPCVD產(chǎn)品特點：

 本產(chǎn)品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設備，功率密度高；

水冷式基片臺和水冷式金屬反映腔，保證系統(tǒng)能長時間穩(wěn)定工作；

基片溫度以微波等離子體自加熱方式達到；

真空測量儀表采用全量程真空計，可**測量本底真空和工作氣體壓強；

真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機械真空泵(極限真空為1Pa)，系統(tǒng)可自動控制沉積氣壓；

配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，確保裝置高功率下可長時間**穩(wěn)定運行；

系統(tǒng)帶15寸觸摸屏，PLC自動控制，可設置溫度或氣壓恒定，可保存復用多達20套工藝文件；

全自動工藝控制模塊，可以穩(wěn)定可靠地制備高品質金剛石薄膜和晶體

MPCVD技術指標與特性:

微波系統(tǒng)（法國Sairem 微波源）	微波頻率	2450±25MHz
	輸出功率	0.6kw~6kw 連續(xù)可調
	微波調諧	三銷釘調配器，模式轉換天線
	微波反射保護	環(huán)形器，水負載
	微波工作模式	TM013
	微波泄漏	≤ 2 mw/cm2
真空系統(tǒng)	工作氣壓范圍	10~250Torr
	自動穩(wěn)壓范圍	40~250Torr
	真空泵	4.4L/s 旋片式真空泵
	系統(tǒng)漏率	<1.0x10-9 Pa?m3 /秒 (通過氦質譜檢漏儀檢測)
	腔體保壓能力	每24 小時壓升小于0.2 乇
	本底極限真空	0.1Pa（7.5 x10-4 Torr)
	真空測量	品牌薄膜規(guī)
真空反應腔	反應腔材料及結構	雙層水冷不銹鋼反應腔
	真空密封	金屬密封+氟膠圈密封(取樣門)
	反應腔內徑	直徑140mm
	樣品臺窗口	105x50mm 長方形端口，帶O 形氟橡膠圈密封的前門
	觀察窗口	兩個端口，CF35 大口徑，180°分布
	測溫窗口	兩個窗口水平角度25~30°，180°分布；窗口方便從反應腔上部的 斜角向下檢測樣品臺的溫度
樣品臺	電動升降式水冷基片臺 直徑100mm，高度可調范圍0～70mm
	鉬基片臺直徑≥50mm，在5000w, 180Torr 工作狀態(tài)，等離子體火球可覆蓋 整個基片臺
	基片臺溫度 250～1400℃（取決于工藝參數(shù)）
氣路	選用日本進口流量計及流量控制閥
	系統(tǒng)自帶四路MFC
	四路MFC *大流速：H2: 1000sccm，CH4：100sccm，O2：20sccm，N2：2sccm
測溫系統(tǒng)	德國Raytek 紅外測溫系統(tǒng)，測溫范圍：300~1300 攝氏度
系統(tǒng)軟件	配置PLC 控制的15“觸摸顯示屏，用戶操作界面友好，所有操作均可在觸摸 屏上完成
	系統(tǒng)支持工程師和操作員兩個用戶級別，提供用戶權限管理功能
	系統(tǒng)自帶缺水，缺氣，電源缺相，火球跳變，過溫過載，打火等自動保護
	可設置多達10 套工藝配方，每套配方有40 行數(shù)據(jù)，生產(chǎn)流程通過工藝配方自 動控制，工藝數(shù)據(jù)可通過U 盤備份導出
	系統(tǒng)自帶全自動抽氣，點火，升溫，降溫等預設流程，用戶操作簡便
	全自動溫度控制，氣壓控制，極大減輕系統(tǒng)操作員的工作量

系統(tǒng)安裝要求

由客戶提供以下安裝條件：

1. 氣體連接

2. 電源

a) 供電電壓：AC 380V(±10％)，頻率50Hz，三相四線，室內具有獨立的地線，

接地電阻效益4Ω，*大功率20kw

b) 建議每臺設備在1 米之外的墻上預留單獨的空氣開關，空氣開關規(guī)格：4P32A

帶漏電保護。

c) 在進行任何連接之前，應關閉系統(tǒng)內配電子系統(tǒng)。

3. 冷卻水

客戶需自備工業(yè)冷水機：

a) 制冷能力：10kw

b) 流量：>30L/min

c) 建議進水溫度：20℃，*高進水溫度<25℃

d) 入口水壓：≥5.0 kg/cm2 （或揚程>45 米）

e) 系統(tǒng)進水出水連接：φ19mm（寶塔接頭）

f) 為了避免因腐蝕而出現(xiàn)問題，建議使用純凈水

4. 系統(tǒng)控制用壓縮空氣需求

a) 工作氣路：用戶需自備CH4, H2, N2, O2 四路氣體，氣體壓力0.2MPa，氣體純

度由用戶根據(jù)工藝需求自行確定

b) 氣體接口：1/4”VCR 接口

UP-206 全自動微波等離子體系統(tǒng)產(chǎn)品規(guī)格書

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a) 壓縮干空氣（CDA）：系統(tǒng)需提供CDA 氣路，氣體壓力≥0.4MPa。

b) 接口：φ8 快插接口（氣動快插）

5. 設備排氣

a) 客戶需自備排氣通道，設備的排氣口通過KF25 接口連接到排氣通道。

驗收

1. 真空泄漏：真空腔漏率＜0.1Torr/12 小時

2. 微波泄漏：測量低于2mW/cm2 （微波輸出5kw 時）

3. 水管漏水：確認水管沒有漏水

4. 系統(tǒng)測試：系統(tǒng)可正常啟動和運行，等離子體火球均勻穩(wěn)定

保修

3. 客戶需自行保證氣體、電力和水等公用設施的工程施工進度不影響設備的安裝調試，

由此引起的延期不予延長保修期。