產(chǎn)品分類(lèi)
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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行星式單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機(jī)構(gòu)，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復(fù)雜樣品臺(tái)的功能型。設(shè)備...
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桌面型靶下置型磁控鍍膜... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電...
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傾斜樣品臺(tái)式單靶磁控鍍... 本設(shè)備為傾斜樣品臺(tái)式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺(tái)與靶面的角度可調(diào)，可用于制作特定生長(zhǎng)角度的薄膜。設(shè)備外形為桌面級(jí)別，大大減少了...
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桌面型不銹鋼腔體雙靶磁... 雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
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?桌面型雙靶直流磁控鍍... ?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，尤其是實(shí)驗(yàn)室SEM樣品...
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雙靶DCRF磁控濺射鍍... 雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)采用靶下置樣品臺(tái)在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個(gè)靶位，直流...
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?雙靶DCRF磁控濺射... ?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺(tái)）配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄...
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桌面型單靶磁控鍍膜儀（... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)高性能...
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桌面型單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電...
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UPS三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的高性?xún)r(jià)比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化，模塊化和可定制的。 該裝置可用于制備單層...
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桌面型雙靶磁控鍍膜儀 CY-MSP210S-RFD桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，在保留高真空不銹鋼腔體的同時(shí)，精簡(jiǎn)了其他機(jī)構(gòu)，將設(shè)...
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往復(fù)樣品臺(tái)單靶磁控鍍膜... 桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以...
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三靶磁控濺射鍍膜儀雙電... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英...
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帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
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分體式單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
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磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合... 磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺...
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三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配...
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三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配直流電源功率...
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三靶磁控濺射鍍膜儀(射... 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配源功率從50...
